Standard E ÖNORM EN 17199-5 15.7.2024 preview

E ÖNORM EN 17199-5 (Draft)

Workplace exposure - Measurement of dustiness of bulk materials that contain or release respirable NOAA or other respirable particles - Part 5: Vortex shaker method

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STANDARD published on 15.7.2024


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The information about the standard:

Designation standards: E ÖNORM EN 17199-5
Publication date standards: 15.7.2024
SKU: NS-1193024
The number of pages: 37
Approximate weight : 111 g (0.24 lbs)
Country: Austrian technische Norm (Draft)
Category: Technical standards ÖNORM

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Workplace atmospheres

Annotation of standard text E ÖNORM EN 17199-5 :

Dieses Dokument beschreibt die Methodik für die Messung und Charakterisierung des Staubungsverhaltens von Schüttgütern, die alveolengängige NOAA oder andere alveolengängige Partikel enthalten oder freisetzen, unter reproduzierbaren Normbedingungen und legt zu diesem Zweck das Verfahren mit Vortex-Schüttler fest. Dieses Dokument legt die Auswahl der Messgeräte und Vorrichtungen sowie die Verfahren für die Berechnung und Darstellung der Ergebnisse fest. Des Weiteren enthält das Dokument eine Anleitung für die Auswertung und Angabe der Daten. Die in diesem Dokument festgelegte Methodik ermöglicht a) die Messung des Massenanteils an alveolengängigem Staub; b) die Messung des anzahlbasierten Staubungsindexes alveolengängiger Partikel im Partikelgrößenbereich von etwa 10 nm bis etwa 1 µm; c) die Messung der anzahlbasierten Emissionsrate alveolengängiger Partikel im Partikelgrößenbereich von etwa 10 nm bis etwa 1 µm; d) die Messung der anzahlbasierten Partikelgrößenverteilung des freigesetzten alveolengängigen Aerosols im Partikelgrößenbereich von etwa 10 nm bis 10 µm; e) die Sammlung freigesetzter luftgetragener Partikel in der alveolengängigen Fraktion für anschließende Beobachtungen und Analysen durch Elektronenmikroskopie. Dieses Dokument gilt für die Prüfung einer Vielzahl unterschiedlicher Schüttgüter einschließlich Nanomaterialien in Pulverform. ANMERKUNG 1 Das Staubungsverhalten einer Reihe von Kohlenstoff-Nanoröhrchen wurde mit einer von dem in diesem Dokument festgelegten Verfahren leicht abweichenden Konfiguration untersucht ([5] bis [10]). Auf der Grundlage dieser veröffentlichten Arbeiten ist das Verfahren mit Vortex-Schüttler auch bei Nanofasern und Nanoplättchen anwendbar. Dieses Dokument gilt nicht für Granulate und Pellets im Millimeter-Größenbereich, die Nanoobjekte in ungebundener, in gebundener unbeschichteter oder in beschichteter Form enthalten. ANMERKUNG 2 Die Einschränkungen im Hinblick auf die Anwendung des Verfahrens mit Vortex-Schüttler bei verschiedenen Arten von Nanomaterialien ergeben sich aus der Konfiguration der Vortex-Schüttler-Einrichtung sowie aus der geringen erforderlichen Menge der Prüfprobe. Sollten künftige Arbeiten in der Lage sein, genaue und wiederholbare Daten zu liefern, die zeigen, dass eine Erweiterung der Anwendbarkeit des Verfahrens möglich ist, dann sind eine Überarbeitung dieses Dokuments und die Festlegung weiterer Anwendungsfälle für das Verfahren vorgesehen. ANMERKUNG 3 Das vornormative Forschungsprojekt [4] hat gezeigt, dass das in diesem Dokument festgelegte Verfahren mit Vortex-Schüttler eine energetischere Zerstäubung ermöglicht als die Verfahren mit rotierender Trommel nach EN 17199 2 [1], mit kontinuierlichem Fall nach EN 17199 3 [2]und mit kleiner rotierender Trommel nach EN 17199 4 [3]. Das Verfahren mit Vortex-Schüttler kann Arbeiten oder Prozesse mit hochenergetischer Staubdispersion durch Vibration oder Schütteln besser simulieren oder sogar ein Worst-Case-Szenario am Arbeitsplatz beschreiben, einschließlich der (nicht empfohlenen) Praxis, kontaminierte Arbeitsoveralls und trockene Arbeitsoberflächen mit Druckluft zu reinigen. ANMERKUNG 4 Bisher wurde noch kein Klassifizierungsschema im Hinblick auf Staubungsindizes oder Emissionsraten nach dem Verfahren mit Vortex-Schüttler erstellt. Liegt künftig erst einmal eine große Anzahl an Messdaten vor, sind eine Überarbeitung dieses Dokuments und, sofern zutreffend, die Einführung eines solchen Klassifizierungsschemas vorgesehen.

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