We need your consent to use the individual data so that you can see information about your interests, among other things. Click "OK" to give your consent.
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 2: Tensile testing method of thin film materials
STANDARD published on 1.5.2007
Designation standards: ČSN EN 62047-2
Classification mark: 358775
Catalog number: 78594
Publication date standards: 1.5.2007
SKU: NS-161584
The number of pages: 32
Approximate weight : 96 g (0.21 lbs)
Country: Czech technical standard
Category: Technical standards ČSN
Tato mezinárodní norma specifikuje metody zkoušek v tahu tenkovrstvových materiálů o délce a šířce pod 1 mm a tloušťce pod 10 µm, které jsou hlavním materiálem struktury mikroelektromechanických systémů (MEMS), mikrostrojů a podobných součástek.
Hlavní materiály struktur pro MEMS, mikrostroje a podobné součástky se vyznačují typickými rozměry v řádu několika mikrometrů, výrobou materiálů pomocí nanášení a výrobou zkušebních kusů pomocí nemechanického obrábění, které používá leptání a fotolitografii. Tato mezinárodní norma popisuje zkušební metodu, která umožňuje zaručovanou přesnost odpovídající speciálním požadavkům.
Přejímaná EN 62047-2 představuje 3 strany anglického textu a 25 stran anglického a francouzského textu normy IEC
1.12.2000
1.5.2011
1.1.2012
1.6.2007
1.6.2007
WITHDRAWN
1.4.2007
Do you want to make sure you use only the valid technical standards?
We can offer you a solution which will provide you a monthly overview concerning the updating of standards which you use.
Would you like to know more? Look at this page.
Latest update: 2024-12-23 (Number of items: 2 217 157)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.